С 16 по 18 апреля 2024 года в Москве в МВЦ «Крокус Экспо» состоится 26 международная выставка электроники,

которая представляет всю цепочку производства от

изготовления компонентов до разработки и сборки конечных электронных систем.

Словарь терминов - Материалы и Химикаты для производства печатных плат и поверхностного монтажа

Проявление фоторезиста (Developing)

Процесс проявления фоторезиста происходит за счет растворения не проэкспонированных (не засвеченных) участков фоторезиста на печатной плате водно-щелочными растворами. Проявление фоторезиста производится в установках проявления Developing Machine различной конструктивной сложности. Процесс проявления Advantage 2000 GT Developer разработан The Dow Chemical Company специально для использования с сухими пленочными фоторезистами и защитными паяльными масками. GT Developer поставляется в форме концентрата, его следует разбавлять чистой водой до рабочей концентрации.

По сравнению с обычными растворами карбоната калия или натрия, GT Developer в состоянии обработать в два раза больше резиста. GT Developer рекомендуется для сухого пленочного, жидкого резиста, а также для твердых и жидких защитных паяльных масок как производства The Dow Chemical Company так и других производителей.